K.20-EX2自动椭圆偏振测厚仪是基于消光法(或称“零椭偏”)椭偏测量原理,针对纳米薄膜厚度测量领域推出的一款自动测量型教学仪器。 LK.20-EX2仪器适用于纳米薄膜的厚度测量,以及纳米薄膜的厚度和折射率同时测量。 LK.20-EX2仪器还可用于同时测量块状材料(如,金属、半导体、介质)的折射率n和消光系数k。
特点
经典消光法椭偏测量原理 仪器采用消光法椭偏测量原理,易于操作者理解和掌握椭偏测量基本原理和过程。 方便安全的样品水平放置方式 采用水平放置样品的方式,方便样品的取放。 紧凑的一体化结构 集成一体化设计,简洁的仪器外形通过USB接口与计算机相连,方便使用。 高准确性的激光光源 采用激光作为探测光波,测量波长准确度高。 丰富实用的样品测量功能 可测量纳米薄膜的膜厚和折射率;块状材料的复折射率、样品反射率、样品透过率。 便捷的自动化操作 仪器软件可自动完成样品测量,并可进行方便的测量数据分析、仪器校准等操作。 安全的用户使用权限管理 软件中设置了用户使用权限(包括:管理员、操作者等模式),便于仪器管理和使用。 可扩展的仪器功能 利用本仪器,可通过适当扩展,完成多项偏振测量实验,如马吕斯定律实验、旋光测量实、旋光等。 应用
LK.20-EX2适合于教学中单层纳米薄膜的薄膜厚度测量,也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。 LK.20-EX2可测量的样品涉及微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等领域。 技术指标项目 | 技术指标 | 仪器型号 | EX2 | 测量方式 | 自动测量 | 样品放置方式 | 水平放置 | 光源 | He-Ne激光器,波长632.8nm | 膜厚测量重复性* | 0.5nm (对于Si基底上100nm的SiO2膜层) | 膜厚范围 | 透明薄膜:1-4000nm 吸收薄膜则与材料性质相关 | 折射率范围 | 1.3 – 10 | 探测光束直径 | Φ2-3mm | 入射角度 | 30°-90°,精度0.05° | 偏振器方位角读数范围 | 0-360° | 偏振器步进角 | 0.014° | 样品方位调整 | Z轴高度调节:12mm 二维俯仰调节:±4° | 允许样品尺寸 | 圆形样品直径Φ120mm,矩形样品可达120mm x 160mm | 配套软件 | * 用户权限设置 * 多种测量模式选择 * 多个测量项目选择 * 方便的数据分析、计算、输入输出 | 最大外形尺寸 | (入射角度70°时)550*375*260mm | 仪器重量(净重) | 约15Kg | 选配件 | * 半导体激光器 |
注:(1)测量重复性:是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次所计算的标准差。 性能保证ISO9001国际质量体系下的仪器质量保证 专业的椭偏测量原理课程 专业的仪器使用培训
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